超微細ニッケル粉末の製造方法-KEMEXC_化学原材料とカスタマイズされたソリューション

超微細ニッケル粉末の製造方法

発行日時：

2025-06-20

超微細ニッケル粉末の製造方法は、化学蒸着（CVD）、物理蒸着（PVD）、噴霧乾燥、液相還元などがあります。高い比表面積、優れた導電性、触媒活性、磁気特性などの特性を備えています。

超微細ニッケル粉末は、一般に粒径が1μm未満のニッケル金属を指します。その製造方法には、化学蒸着（CVD）、物理蒸着（PVD）、噴霧乾燥、液相還元法の4つの主要な方法があります。

化学蒸着（CVD） :

化学蒸着（CVD）は、気相水素還元としても知られています。これは、水素で金属ハロゲン化物を還元するもので、積層セラミックコンデンサ（MLCC）用の超微細ニッケル粉末を製造するために使用される方法の1つです。このプロセスでは、塩化ニッケルを高温度で蒸発させ、水素雰囲気中で元素状ニッケル原子に還元します。その後、原子核が生成され、成長し、超微細ニッケル粉末に凝縮します。この方法で製造されたニッケル粉末は、一般的に超微細ニッケル粉末であり、比較的低コストで、均一なサイズの球状金属ニッケル粉末を製造できます。

物理蒸着（PVD） :

物理蒸着（PVD）は、真空環境を利用して金属を蒸発させ、超微細粉末に凝縮させる製造技術です。その基本原理は、高真空または不活性雰囲気下で、高温蒸発、スパッタリング、またはアーク放電によって金属ニッケル原子が固体表面から離れ、気相に入ることです。これらの原子は、低温領域でナノメートルからサブミクロンサイズのナノ粒子に凝縮します。これは、粒径と形態の制御可能性、高純度と低欠陥、後処理を必要としないクリーンな表面、環境への優しさなどの利点を提供します。しかし、酸化されやすい、装置が複雑である、技術的な要件が高い、コストが高いなどの欠点もあります。

噴霧乾燥 :

超微細ニッケル粉末を製造するための噴霧法は、典型的な物理的製造プロセスであり、主に溶解、噴霧、冷却の3つの段階で構成されています。この方法の利点は、その簡潔さ、低コスト、および大規模生産への適合性（一度のバッチで最大数トンを生産可能）です。しかし、粉末の粒径分布は広く、表面酸化を起こしやすい（その後の還元処理が必要）です。主に中～低級MLCC、金属射出成形（MIM）、および熱スプレーコーティング用途で使用されています。

液相還元 :

超微細ニッケル粉末を製造するための液相化学還元法は、溶液化学反応に基づくプロセスであり、通常、以下の手順が含まれます。ニッケル塩を前駆体として使用し、水または有機溶媒に溶解して均一な溶液を形成し、次に強力な還元剤を加え、アルカリ性条件下で還元反応によってニッケルイオンを金属ニッケル粒子に変換します。反応中は、温度を正確に制御する必要があり（50～90℃）、ナノ粒子の凝集を防ぐために界面活性剤が添加されます。最終製品は、遠心分離、エタノール洗浄、真空乾燥によって得られ、粒径が50～200nmのニッケル粉末が得られます。この方法は操作が簡単で、費用対効果が高く、スケーラブルです。しかし、残留還元剤が純度に影響を与える可能性があり（通常は≤99.5％）、精製のためにその後の酸洗浄または熱処理が必要になります。主に中級MLCC電極、触媒、導電性ペーストに適用されています。

キーワード：

超微細ニッケル粉末,CVD,PVD,液相還元,噴霧乾燥

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